硅單質是根本的光學食材、半導體材料器件食材，其戰略規劃材料的社會地位慢慢很深，世界上市場想要量不間斷的增高。在光學、半導體材料器件財產中，想要將單質硅體打孔成達到特殊要求的硅片，現今多晶硅重點選用多線打孔技術設備，在打孔步驟中約50%的硅料混進由聚乙二醇（PEG）鉆削液和炭化硅粉（SiC）耐磨材料形成的鉆削液中，可使鉆削液中微粉的形成、粒度、光潔度均反對足標準，導致的鉆削液性能指標上升，未能去重復充分利用，于是在打孔步驟中想要不間斷的地排盡舊鉆削液，并不間斷的地
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鋁粉涂料遮掩力好，兼有浮起性，不透光，能漫反射看不見光、紅外線和分光光度計線的60%～90%，對太陽光兼有水冷功效，耐天氣氣候性較好，防腐處理和耐水耐熱性美好，還兼有比較特殊的面對鮮亮、側視變暗的“雙面色效用”。近30余年，鋁粉涂料不斷發展是非常很快，優良品種升范圍添加，在車、建筑裝修、黑色金屬閃爍漆和uv打印機彩印印刷油墨等的領域中密切用途。鋁粉涂料包擴油性皮膚和水性聚氨酯幾類別，前者是工作工藝設備熟透，通常工藝設備包擴做霧化鋁粉→材料分層→球磨→過篩→打蠟 →鋁粉涂料，球磨
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這對某種分散化性很好的、nm級粒度分布的納米粉末設備組織體制，使用瓷質膜活性炭過濾裝置技術性洗滌、收集和精濃超細納米粉末設備完整為一新的應用角度。與傳統型的技術較好，膜技術性洗滌步驟不間斷確定，運行準確時間降低，在降低軟件傷害率的同樣，洗滌廢需發電量盡可能降低。同樣化解了傳統型的的板框活性炭過濾裝置、迅速離心分離等洗滌方式方法有著的納米粉末設備易跑料、濾液渾濁、軟件產出率低（約70到90%）、洗滌需發電量大、勞動課抗彎強度職業技術弱點。?????&
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